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         掩模衍射頻譜軸向分量對光刻成像性能的影響

        董立松 李艷秋 郭學佳

        [摘要]傳統三維光刻矢量成像模型中將投影系統物方電磁場表示為二維形式,實現方式分為兩種:采用局部坐標和忽略掩模衍射頻譜的軸向分量。后者在浸沒式光刻系統仿真中的適用性需要進一步分析。簡述了忽略掩模頻譜軸向分量的...

         PDF全文光學學報 | 2013, 33(11):1111002

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